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等離子體是一種電中性、高能量、全部或部分離子化的氣態(tài)物質(zhì)，包含離子、電子、自由基等活性粒子。借助高頻電磁振蕩、射頻或微波、高能射線、電暈放電、激光、高溫等條件產(chǎn)生。等離子體清洗是通過其所含的活性粒子與污染物分子反應使其從固體表面分離來進行的。是一種干式清洗技術(shù)，能夠替代傳統(tǒng)的濕法清洗技術(shù)。能夠在不破壞材料表面特性的前提下，有效清除材料表面的微塵及其它污染物。

影響等離子體清洗效率的因素主要有以下幾點：

(1) 電極：電極放電面積越大，電極間距越小，清洗效率越高。

(2) 壓強：工作壓強越大，等離子體密度越高，清洗速率越快。

(3) 功率：等離子放電功率越大，對工件表面的清洗強度越大。

(4) 時間：清洗時間的長短會直接影響到等離子體對工件的清洗效果以及工作效率。

(5) 速度：處理連續(xù)傳動的工件時，工件與電極的相對移動速度越慢，處理效果越好。

(6) 氣體：待處理工件的基材及其表面污染物具有多樣性，因此有針對性地選擇等離子體的工作氣體十分重要。不同氣體放電所產(chǎn)生的等離子體清洗速度和清洗效果可相差幾倍甚至幾十倍。

(7) 其他：等離子體清洗工藝中的氣體分配、氣體流量、電極設(shè)置等參數(shù)也會影響清洗效果。因此需要根據(jù)實際情況和清洗要求設(shè)定具體的、適合的工藝參數(shù)。

等離子清洗機